스퍼터링 (Sputtering)

스퍼터링 도금

스퍼터링 (Sputtering Deposition)

고에너지 이온을 사용하여 타겟 물질을 기판에 증착시키는 방법입니다.

스퍼터링 도금은 매우 얇고 균일한 박막을 증착할 수 있어, 전자, 반도체, 광학, 나노 기술 등 다양한 산업 분야에서 중요한 역할을 합니다

설명: 고에너지 입자를 사용해 타겟 금속 원자들을 튀겨내어 표면에 증착시키는 방법.
용도: 얇은 박막 코팅, 전자 부품.
예시: 알루미늄 스퍼터링, 금 스퍼터링.

 

1. 직류 스퍼터링 (DC Sputtering)

일반적인 두께: 0.05 - 5 마이크론 (µm)

특성

• 주로 전도성 타겟에 사용
• 비교적 간단한 공정
• 높은 증착 속도

사용 예

• 전자 부품: 트랜지스터, 다이오드
• 광학 코팅: 안티리플렉션 코팅, 반사 방지 코팅
• 저항기: 필름 저항기

---

2. 교류 스퍼터링 (AC Sputtering)

일반적인 두께: 0.05 - 5 마이크론 (µm)

특성

• 전도성 및 비전도성 타겟에 사용 가능
• 높은 증착 균일성
• 다양한 재료에 적용 가능

사용 예

• 박막 트랜지스터: TFT-LCD
• 광학 코팅: 보호 코팅, 반사 방지 코팅
• 센서: 가스 센서, 압력 센서

---

3. 마그네트론 스퍼터링 (Magnetron Sputtering)

 

• 일반적인 두께: 0.05 - 5 마이크론 (µm)
• 특수 용도: 최대 10 마이크론 (µm) 이상 가능

특성

• 자기장을 이용해 높은 증착 속도 제공
• 낮은 기판 온도에서 작업 가능
• 높은 증착 균일성

사용 예

• 대면적 코팅: 태양광 패널, 건축용 유리
• 하드 디스크: 데이터 저장 장치
• 반도체: 배리어 메탈, 배선 메탈

---

4. 반응성 스퍼터링 (Reactive Sputtering)

일반적인 두께: 0.05 - 3 마이크론 (µm)

특성

• 반응성 가스를 사용하여 화합물 형성
• 고순도 박막 증착
• 다양한 화합물 코팅 가능

사용 예

• 세라믹 코팅: 산화물, 질화물
• 광학 코팅: 반사 방지 코팅, 필터 코팅
• 전자 부품: 절연층, 보호층

---

5. RF 스퍼터링 (Radio Frequency Sputtering)

일반적인 두께: 0.01 - 2 마이크론 (µm)

특성

• 전도성 및 비전도성 타겟에 사용 가능
• 높은 증착 균일성
• 낮은 온도에서 작업 가능

사용 예

• 반도체 산업: 절연막, 보호막
• 광학 코팅: 반사 방지 코팅, 필터 코팅
• 센서: 바이오 센서, 가스 센서

---

6. 중립 원자 빔 스퍼터링 (Neutral Atom Beam Sputtering)

두께 범위

• 일반적인 두께: 0.01 - 1 마이크론 (µm)

특성

• 높은 증착 속도
• 낮은 에너지 증착
• 높은 증착 균일성

사용 예

• 나노 기술: 나노 구조물, 나노 장치
• 반도체 산업: 미세 구조 코팅
• 전자 부품: 고밀도 집적 회로